Najbližji Intel bo novinarjem ali analitikom omogočil, da pridejo do njegovega primarnega proizvodnega raziskovalnega obrata, znanega kot D1D, na hodniku zunaj fabričnega dna v svojem kampusu Ronler Acres v Hillsboroju v Oregonu.
Izza okna je bil obiskovalcem omogočen bežen pogled na morda najpomembnejši objekt za izdelavo čipov v Intelovi tovarni. Kot bi lahko pričakovali, iz tako omejene perspektive ni veliko videti. Toda upravitelji objektov so delili nekaj podrobnosti o objektu, kjer Intel skrbi, da njegove napredne proizvodne tehnologije delujejo brezhibno, preden jih preselijo v fabrike po vsem svetu.
Fab D1D je bil dokončan leta 2003 in pokriva nekaj manj kot milijon kvadratnih metrov, je povedal Bruce Horwath, vodja proizvodnje za D1D. Intel trenutno izdeluje procesorje s svojo novo 65-nanometrsko tehnologijo obdelave v D1D, čipe, ki naj bi bili uradno predstavljeni v začetku prihodnjega leta.
Silicijeve rezine se naložijo v različna orodja za izdelavo čipov - nekatera stanejo tudi več kot 10 milijonov dolarjev - s pomočjo zapletenega usmerjevalnega sistema, ki teče na mehaniziranih progah nad orodji. D1D uporablja tako imenovano "dvoransko" zasnovo, kar pomeni, da so tla v čisti sobi široko odprta in nimajo sten v objektu, kjer se lahko nabira umazanija, je dejal Horwath.
Zrak v čisti sobi se nenehno osvežuje in vzdržuje na ravni čistoče, znane kot razred 10, je dejal Horwath. Zrak je še bolj čist znotraj zlagalnikov, ki prevažajo silicijeve rezine od orodja do orodja. Ta zrak je v razredu 1, kar pomeni, da so v kubičnih metrih zraka dovoljeni le trije delci umazanije, ki merijo 0,3 mikrona. Za primerjavo, zrak na hodniku, od koder je mogoče opazovati čisto sobo, ni na lestvici, "nekaj takega kot razred 100.000," se smeji Horwath.
Nekaj sto tehnikov dela v 12-urnih izmenah pod večno rumeno-oranžno svetlobno kopalnico D1D. Redna bela svetloba bi zameglila svetlobno občutljive kemikalije, ki se uporabljajo v proizvodnem procesu za projiciranje maske ali materiala, ki vsebuje postavitev čipa, na silicijev rezin. Izdelava čipa je skoraj kot fotografiranje, le da namesto slike ostanejo plasti silicijevega dioksida.
Intel leti v delavce iz drugih objektov v Hillsboro, da bi izvedel, kako se tehnologije uvajajo v D1D, pri čemer naj šest mesecev do enega leta učijo, kako stvari delujejo v Oregonu, preden se vrnejo na svoje fabrike, da bi podvojili postopek v okviru Intelove strategije Copy Exactly. en zaposleni v Intelu, ki je spremljal turnejo v sredo. Dejansko podjetje trenutno gradi bivalne prostore tik pred D1D za zaposlene, ki bodo kmalu zadolženi za uvajanje Intelove 65-nm proizvodne tehnologije v fabrike v Oregonu in na Irskem.
Fotografije znotraj D1D niso bile dovoljene. Znak, postavljen vidno ob vhodu, je zaposlene v Intelu opomnil, da bi jih lahko zaradi nepooblaščenih fotografij D1D odpustili s službe. Intel je tako zaskrbljen zaradi tajnosti znotraj D1D, da nobenemu tujcu ne bo dovolil, da bi njegovo omrežje uporabljal za dostop do interneta, varnostniki pa so budno spremljali goste, ko so si ogledali objekt.
